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真空電鍍適用范圍 真空電鍍適用范圍較廣，如abs料、abs+pc料、pc料的產(chǎn)品.同時因其工藝流程復(fù)雜、環(huán)境、設(shè)備要求高，單價比水電鍍昂貴.現(xiàn)對其工藝流程作簡要介紹：產(chǎn)品表面清潔--〉去靜電--〉噴底漆--〉烘烤底漆--〉真空鍍膜--〉噴面漆--〉烘烤面漆--〉包裝. 三、真空電鍍的做法 一般真空電鍍的做法是在素材上先噴一層底漆，再做電鍍．由于素材是塑料件 鍍膜設(shè)備，在注塑時會殘留空氣泡 鍍膜，有機(jī)氣體，而在放置時會吸入空氣中的水分．另外，由于塑料表面不夠平整，直接電鍍的工件表面不光滑，光澤低 鋼化鍍膜玻璃，金屬感差，并且會出現(xiàn)氣泡，水泡等-狀況．
常見的直接法測量有：螺旋測微法、精密輪廓掃描法（臺階法）、掃描電子顯微法（sem）； 間接測量指根據(jù)一定對應(yīng)的物理關(guān)系，將相關(guān)的物理量經(jīng)過計(jì)算轉(zhuǎn)化為薄膜的厚度，從而達(dá)到測量薄膜厚度的目的。 常見的間接法測量有：稱量法、電容法、電阻法、等厚干涉法、變角干涉法、橢圓偏振法。按照測量的原理可分為三類：稱量法、電學(xué)法、光學(xué)法。 常見的稱量法有：天平法、石英法、原子數(shù)測定法； 常見的電學(xué)法有：電阻法、電容法、渦流法； 常見的光學(xué)方法有：等厚干涉法、變角干涉法、光吸收法、橢圓偏振法。
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