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所謂真空鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內(nèi) 真空鍍膜管，采用一定方法加熱待鍍材料 真空鍍膜材料，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。 一、鍍膜的方法及分類 在真空條件下成膜有很多優(yōu)點(diǎn)：可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過(guò)程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)（如氧化等），以及減少成膜過(guò)程中氣體分子進(jìn)入薄膜中成為雜質(zhì)的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。
一、電控柜的操作 　　1. 開水泵、氣源 　　2. 開總電源 　　3. 開維持泵、真空計(jì)電源，真空計(jì)檔位置v1位置，等待其值小于10后 真空鍍膜，再進(jìn)入下一步操作。約需5分鐘。 　　4. 開機(jī)械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動(dòng)，真空計(jì)開關(guān)換到v2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。 　　5. 觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達(dá)250以后，關(guān)予抽 真空鍍膜，開前機(jī)和高閥繼續(xù)抽真空，抽真空到達(dá)一定程度后才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達(dá)2×10-3以后才能開電子槍電源。
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