錄音機(jī)-enabler-磁帶錄音機(jī)

semilab錯(cuò)位缺陷可視化裝置envision

wt-2000 系列能夠進(jìn)行高速測(cè)量（20 晶圓/小時(shí) - 2500 點(diǎn)），還支持高分辨率映射測(cè)量。

提供 266nm、355nm、405nm、532nm、785nm 和 980nm 的多種激光選項(xiàng)

晶體缺陷可視化裝置 envision 是一種非破壞性、非接觸式半導(dǎo)體檢測(cè)系統(tǒng)，可以在 15 nm 級(jí)別可視化位錯(cuò)缺陷。錯(cuò)位缺陷的可視化使得過去依賴于工藝-的經(jīng)驗(yàn)和直覺的工藝工作的定量?jī)?yōu)化成為可能。

對(duì)于2英寸到8英寸的硅晶圓和化合物半導(dǎo)體（gaas、gan、inp 等）外延晶圓，可以對(duì)載流子遷移率、薄層電阻和薄層電荷密度進(jìn)行非接觸和非破壞性測(cè)量。

corema-2000 能夠?qū)�硅和化合物半�?dǎo)體進(jìn)行非破壞性和非接觸式電阻率測(cè)量。我們可以處理過去難以處理的電阻基板，例如半絕緣材料。

cn-cv 350 cv/iv 系統(tǒng)基于獲得的 corona-kelvin 方法提供 semilab sdi cv/iv 測(cè)量，用于介電和界面特性的非接觸成像。這個(gè)-平臺(tái)能夠從雙 foup 裝載端口裝載站自動(dòng)處理晶圓，并且完夠在苛刻的大批量生產(chǎn)環(huán)境中支持在線測(cè)量。

cn-cv 330/230 cv/iv 系統(tǒng)基于獲得的 corona-kelvin 方法提供 semilab sdi cv/iv 測(cè)量，用于監(jiān)測(cè)晶圓上的介電和界面特性的非接觸式成像。

北浜制作所kitahama焊條烘干機(jī)s-2

跌落測(cè)試設(shè)備，混合液體涂布機(jī)，焊條烘干機(jī)s-2，s-4，kl -25，kl -50，kl-30l，kl-60l，gh-20，gh-25l，kh-5，kh-10，kh-20，kh-40，射頻錄音機(jī)syncbox，kh-7l，kh-15l，kh-25l，磁帶錄音機(jī)，kh-50l，gf-5，錄音機(jī)，gf-10，gf-20，gf-30，kf-100，kf-200，kf-300，

產(chǎn)品介紹

跌落測(cè)試設(shè)備

用法：電子設(shè)備、家用電器

特征

碰撞安全性證明

產(chǎn)品開發(fā)和管理

各類研究機(jī)構(gòu)

應(yīng)用用途

移動(dòng)設(shè)備智能手機(jī)、筆記本電腦等

汽車零部件

流通關(guān)聯(lián)部件保護(hù)箱、紙箱等

此外，還可以制作符合jis等規(guī)格的各種跌落試驗(yàn)裝置

混合液體涂布機(jī)

液體的攪拌、點(diǎn)膠、涂敷等工序自動(dòng)化，進(jìn)行均勻的點(diǎn)膠、涂敷。

用法：、化工產(chǎn)品

功能

多用途自動(dòng)化

-涂布

功能

簡(jiǎn)單直觀的程序

用途

特殊材料、材料的涂層令

液中粉體按粒徑涂布

面向量產(chǎn)規(guī)格的各種樣品制作等

特性

緊湊且-的分注、灌裝機(jī)器人

在高度方向上留有余地的設(shè)置

通過與外部設(shè)備的組合自動(dòng)化各種作業(yè)

不僅是涂布和分注，還可以根據(jù)需要進(jìn)行設(shè)計(jì)開發(fā)和制作

除了附帶的示教箱之外，還可以通過可選的程序制作軟件進(jìn)行數(shù)據(jù)編輯、印刷、在畫面上執(zhí)行前確認(rèn)

焊條烘干機(jī)

用法：用于焊接作業(yè)的焊條干燥