-顯影工藝主要應(yīng)用于微電子加工中,是一種將芯片圖案傳遞到硅片上的技術(shù)。
-顯影工藝可以分為以下步驟:準(zhǔn)備硅片:在硅片上涂覆光刻膠,將硅片和光刻膠一起加熱,使其在表面形成均勻的光刻膠層。照射:使用紫外線輻射光源將芯片圖案(或感光掩膜中的圖案)通過掩膜傳遞到光刻膠層上。
只有對公差配合完全掌握,相機(jī)殼-顯影加工供應(yīng)商,才能簡單-的做出合格品。目前加工行業(yè)在致力打造噴涂-顯影-,這種表面裝飾工藝可以克服貼合的一些不足,具備一定的優(yōu)勢,目前藍(lán)思、伯恩的-顯影加工工藝相對比較成熟。
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