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化學鍍鎳-應用的低成本,操作簡便性,清潔生產的環(huán)境效應。我想環(huán)境效應這一點是非常重要的。化學鍍鎳是一項標準的清潔生產工藝,這里我想多說幾句,所謂清潔生產就是指采用無污染少污染的原材料及沒有污染或少污染的生產工藝,電鍍鋅加工,把污染源消滅在產品的制造過程中,而不是像我們傳統(tǒng)的生產工藝,先污染后制理,浪費人力、物力、財力,也浪費資源,資源對我們來說是-的,這是我國可持續(xù)發(fā)展的關鍵,也是未來幾年我們化學鍍鎳進行-工業(yè)應用的一張。
化學鍍鎳的優(yōu)點很多,這也是它能在各個工業(yè)領域廣泛應用的主要原因,但是在這里我也希望大家記住一點,化學鍍鎳不是的,它只是表面處理技術中的一種,天津電鍍鋅,有很多新的化學鍍領域等待我們去研究。有人想得到所有的優(yōu)點,這是不可能的,世上也沒有的東西,我們在工業(yè)應用中應該記住四個字:揚長避短。充分發(fā)揮化學鍍鎳的長處,讓它-神通,要用得-。
化學鍍鎳層的退除要比電鍍鎳層困難得多,-是對于高耐蝕化學鍍鎳層更是如此。不合格的化學鍍鎳層應在熱處理前就進行退除,否則鍍層鈍化后退鍍更困難。要求退鍍液必須對基體無腐蝕,其次鍍層厚度、退鍍速度、退鍍成本等因素都要考慮。 化學退鍍法: 化學退鍍法不使工件受腐蝕,適用幾何形狀復雜的工件,且可做到退鍍均勻。 配方1:濃hno3,20~60℃。本液成本低,電鍍鋅價格,速度快的(30~40μm/h),毒性小。適用尺寸精密要求不高的工件退鍍,防止帶入水、退鍍完畢迅速入-中清洗后再用流動水清洗。 配方2:hno3(1∶1),20~40℃,退速快(10μm/5~6min),適用不銹鋼。 配方3:濃hno31000ml/l,nacl20g/l,尿素10g/l(抑制nox氣體的生成),六次四胺5g/l,室溫,退速20μm/h。 配方4:間磺酸鈉60~70g/l,-100~120g/l,硫-0.5~1g/l,80~90。c,適用銅及銅合金工件的退鍍,退鍍表面為深棕色時,取出后充分清洗,再除棕色膜(nacn30g/l,naoh30g/l,室溫)。 配方5:hno3∶hf=4∶1(體積比),冬天適當加溫,退速快,鐵基體不腐蝕。但hf一定要用分析純(用工業(yè)級hf配槽,易發(fā)生)。
需要解決選擇性析出的技術問題,銅導體經過催化活化,電鍍鋅工藝,采用還原劑為dmab(二化硼)和稀的化學鍍鎳溶液,確認其選擇性沉積是有效的。 另外,經過化學鍍鎳+金的電鍍處理的基板,與電鍍法鍍出的鍍層相比,其焊接強度就比較低。其主要原因是由鎳粒子粒界被腐蝕-,鎳層中的富磷層形成以及錫-鎳-磷合金層的形成,F在的問題是對鎳層中含磷量的含有率控制,使過程中不會產生局部腐蝕,具有適用性的工藝對策是有效的。
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