氮化鋁真空鍍膜廠商-吉林氮化鋁真空鍍膜-半導(dǎo)體微納

氮化鋁真空鍍膜mems真空鍍膜加工平臺(tái)——廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所是廣東省科學(xué)院下屬骨干研究院所之一，主要-半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的應(yīng)用技術(shù)研究，-重大技術(shù)應(yīng)用的基礎(chǔ)研究，立足于廣東省經(jīng)濟(jì)社會(huì)發(fā)展的實(shí)際需要，氮化鋁真空鍍膜加工，從事電子信息、半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用基礎(chǔ)性、關(guān)鍵共性技術(shù)研究，以及行業(yè)應(yīng)用技術(shù)開(kāi)發(fā)。

cvd鍍膜設(shè)備種類(lèi)繁多，當(dāng)前pecvd為主流技術(shù)，未來(lái)市占率有望進(jìn)一步提升。cvd是指利用氣態(tài)或蒸汽態(tài)的物質(zhì)在氣相或氣固界面上發(fā)生反應(yīng)生成固態(tài)沉積物的過(guò)程，是近幾十年發(fā)展起來(lái)的制備無(wú)機(jī)材料的新技術(shù)�；瘜W(xué)氣相淀積法已經(jīng)廣泛用于提純物質(zhì)、研制新晶體、淀積各種單晶、多晶或玻璃態(tài)無(wú)機(jī)薄膜材料。這些材料可以是氧化物、-物、氮化物、碳化物，也可以是iii-v、ii-iv、iv-vi族中的二元或多元的元素間化合物，而且它們的物理功能可以通過(guò)氣相摻雜的淀積過(guò)程控制。cvd鍍膜重復(fù)性和臺(tái)階覆蓋性較好，可用于sio2、si3n4、psg、bpsg、teos等介質(zhì)薄膜，以及半導(dǎo)體、金屬（w）、各類(lèi)金屬有機(jī)化合物薄膜沉積。cvd種類(lèi)繁多，根據(jù)腔室壓力、外部能量等不同，可大致分為 apcvd、lpcvd、sacvd、 pecvd、mocvd等類(lèi)別。cvd設(shè)備反應(yīng)源容易獲得、鍍膜成分多樣、設(shè)備相對(duì)簡(jiǎn)單、-適用于在形狀復(fù)雜的零件表面和內(nèi)孔鍍膜。

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