真空鍍膜有三種形式,即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍.蒸發(fā)鍍膜 通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面,稱為蒸發(fā)鍍膜。真空鍍膜是在真空-鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù),在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。
真空鍍膜加工均勻性的概念:
1.厚度上的均勻性,也可以理解為粗糙度,真空鍍膜加工均勻性。
2.化學(xué)組分上的均勻性: 就是說在薄膜中,化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性,薄膜,如果鍍膜過程不科學(xué),鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分,鋁板真空鍍膜,這也是真空鍍膜加工的技術(shù)含量所在。
3.晶格有序度的均勻性
真空鍍膜加工工藝中,要求裝配到高真空環(huán)境的零件,事先都需要小心地進(jìn)行清洗處理,鋁板真空鍍膜工廠,否則各種污染物可成為大量氣體和蒸氣的來源,會-延長真空器件的排氣時間,不易獲得高真空。
真空鍍膜表面的清洗非常重要,直接影響鍍膜產(chǎn)品的。在進(jìn)入鍍膜室之前,工件須在鍍膜前仔細(xì)清洗。真空鍍膜是在真空-鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù),在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。
真空鍍膜技術(shù)之物理氣相沉積技術(shù),它利用某種物理過程,鋁板真空鍍膜,實現(xiàn)物質(zhì)原子從源物質(zhì)到薄膜的可控轉(zhuǎn)移過程。物理氣相沉積技術(shù)具有膜/基結(jié)合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應(yīng)用的靶材廣泛、濺射范圍寬、可沉積厚膜、可制取成分穩(wěn)定的合金膜和重復(fù)性好等優(yōu)點。
真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好,可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi),也就是說對于薄膜的光學(xué)特性來說,真空鍍膜沒有障礙。鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分,這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。
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