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實踐證明,電子束鋼帶真空鍍膜具有很多優(yōu)點:
(1)可選擇的鍍膜材料多而不受材料熔點-。能量密度-的電子束可以使鍍膜材在很短的時間達到3000℃~6000℃。因此,除了熱鍍鋅中常見的鍍鋅、鋁、錫之外,幾乎所有的金屬材料都可以蒸鍍,還可鍍種類眾多的金屬氮化膜,金屬氧化膜和金屬炭化物及各種復合膜。這為發(fā)展新型帶鋼材料提供了很大的自由度。
(2)鍍膜材料利用率高,派瑞林涂層防水,環(huán)境污染小。真空鍍膜屬干式鍍膜,沒有有害液體、氣體的產生。
真空鍍膜技術一般分為兩大類,即物理氣相沉積(pvd)技術和化學氣相沉積(cvd)技術。物理氣相沉積技術是指在真空條件下,利用各種物理方法,將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子,派瑞林涂層,直接沉積到基體表面上的方法。制備硬質反應膜大多以物理氣相沉積方法制得,派瑞林涂層公司,它利用某種物理過程,如物質的熱蒸發(fā),或受到離子轟擊時物質表面原子的濺射等現(xiàn)象,實現(xiàn)物質原子從源物質到薄膜的可控轉移過程。
派瑞林納米涂層式一種高分子熱可塑性聚合體,由單體對二在真空狀態(tài)下均勻分布在被涂裝物的縫隙和表層然后聚合。運用氣相沉積的處理技術,可以于物體表面均勻coating形成膜層,薄膜的厚度可在1微米至 50微米的范圍內任意調整。由于在真空狀態(tài)下操作蒸氣無孔不入效率,可形成無膜層, 并地控制膜層厚度,且各處厚度均勻一致,使派瑞林((parylene coating)涂層的覆被特性遠優(yōu)于epoxy(電泳)、spary(噴涂)、dipper(含浸)等涂裝方式。
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