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真空鍍膜的方法很多,派瑞林涂層,計(jì)有:(1)真空蒸鍍:將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室,抽空后將膜料加熱到高溫,使蒸氣達(dá)到約13.3pa而使蒸氣分子飛到基體表面,凝結(jié)而成薄膜。(2)陰極濺射鍍:將需鍍膜的基體放在陰極對(duì)面,把惰性氣體(如)通入已抽空的室內(nèi),保持壓強(qiáng)約1.33~13.3pa,然后將陰極接上2000v的直流電源,便激發(fā)輝光放電,帶正電的離子撞擊陰極,使其射出原子,濺射出的原子通過(guò)惰性氣氛沉積到基體上形成膜。(3)化學(xué)氣相沉積:通過(guò)熱分解所選定的金屬化合物或有機(jī)化合物,獲得沉積薄膜的過(guò)程。(4)離子鍍:實(shí)質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機(jī)結(jié)合,兼有兩者的工藝特點(diǎn)。表6-9列出了各種鍍膜方法的優(yōu)缺點(diǎn)。
真空鍍膜技術(shù)一般分為兩大類,即物理氣相沉積(pvd)技術(shù)和化學(xué)氣相沉積(cvd)技術(shù)。物理氣相沉積技術(shù)是指在真空條件下,派瑞林涂層加工,利用各種物理方法,將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子,派瑞林涂層價(jià)格,直接沉積到基體表面上的方法。制備硬質(zhì)反應(yīng)膜大多以物理氣相沉積方法制得,它利用某種物理過(guò)程,如物質(zhì)的熱蒸發(fā),派瑞林涂層材料,或受到離子轟擊時(shí)物質(zhì)表面原子的濺射等現(xiàn)象,實(shí)現(xiàn)物質(zhì)原子從源物質(zhì)到薄膜的可控轉(zhuǎn)移過(guò)程。
眾所周知,在某些材料的表面上,只要鍍上一層薄膜,就能使材料具有許多新的、-的物理和化學(xué)性能。20世紀(jì)70年代,在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學(xué)鍍法。前者是通過(guò)通電,使電解液電解,被電解的離子鍍到作為另一個(gè)電極的基體表面上,因此這種鍍膜的條件,基體必須是電的良導(dǎo)體,而且薄膜厚度也難以控制。后者是采用化學(xué)還原法,必須把膜材配制成溶液,并能迅速參加還原反應(yīng),這種鍍膜方法不僅薄膜的結(jié)合強(qiáng)度差,而且鍍膜既不均勻也不易控制,同時(shí)還會(huì)產(chǎn)生大量的廢液,造成-的污染。因此,這兩種被人們稱之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的-。
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