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(1) 阻擋層 阻擋層是由無水的ai2o3所組成, 薄而致密, 具有高的硬度和阻止電流通過的作用。(2) 多孔的外層氧化膜多孔的外層主要是由非晶型的ai2o3及少量 的r-ai2o3.h2o還含有電解液的陰離子。鋁合金的化學(xué)成分除影響生成氧化膜的抗蝕能力之外,對(duì)生成的氧化膜厚度也有一定影響。氧化膜的孔徑在100nm~200nm之間,氧化膜厚度10微米左右,孔隙率20%左右,孔距300~500nm之間。氧化膜的截面圖表明氧化膜孔基本上是管狀結(jié)構(gòu),氧化膜發(fā)生溶膜反應(yīng)基本上是在孔的底部發(fā)生的。而一般的-直流陽(yáng)極氧化膜的孔徑是20nm左右,如果是12微米的氧化膜,那是多深的細(xì)管狀結(jié)構(gòu)!假設(shè)這是一個(gè)直徑1m的井,那么它的井深將有600m深。
2) 陽(yáng)極氧化膜的性質(zhì)與應(yīng)用 陽(yáng)極氧化膜具有較高的硬度和耐磨性、極強(qiáng)的附著能力、較強(qiáng)的吸附能力、-的抗蝕性和電絕緣性及高的熱絕緣性。由于這些特異的性能, 使之在各方面都獲得了廣泛的應(yīng)用。真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面,它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ),利用物理或化學(xué)方法,并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù),為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。主要用途有:(1)提高零件的耐磨、耐蝕性、耐氣候腐蝕。(2)氧化生成的透明膜,可以著色制成各種彩色膜。(3)作為電容器介質(zhì)膜。(4)提高與有機(jī)涂層的結(jié)合力。作涂裝底層。(5)作電鍍、搪瓷的底層。(6)正在開發(fā)的其它用途,太陽(yáng)能吸收板、硬質(zhì)膜、干潤(rùn)滑膜、觸媒膜、納米線、在多孔膜中沉積磁性合金作記憶元件。
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