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真空pvd鍍膜基本步驟
1、前處理工藝:褪膜、噴砂、拋光、鈍化、清洗、裝夾。
2、鍍膜工藝:抽真空、加熱烘烤、漏率測試、轟擊清洗、鍍膜、冷卻出爐。
3、后處理工藝:清洗:-鍍膜前產品表面的清潔,越新鮮的表面,越能-鍍膜。抽真空:將真空室內的殘余氣體抽走。加熱烘烤:爐體和工件同時加熱,加速殘余氣體的釋放。壓升率測試:測試爐體的漏氣率和放氣率。轟擊清洗:去除工件表面的雜志,露出新鮮表面。鍍膜:沉積膜層。冷卻:避免工件氧化變色。
真空卷繞鍍膜機鍍層之間的結合力
真空卷繞鍍膜機鍍層之間的結合力主要與以下因素有關:
1、真空鍍膜設備底鍍層的種類與性質。一般認為,銅層與多種金屬都具有好的結合力。含鐵量-30%左右的高鐵鎳鐵合金,在酸銅液中也會產生置換銅層,故不能用于光亮酸銅打底。
2、真空鍍膜機底鍍層的光亮性。真空鍍膜鍍層越是光亮,與其他鍍層的附著力可能越差。
3、真空鍍膜設備底鍍層表面的清潔性。典型的是鍍-鹽光亮酸銅后,往往形成有機膜鈍化層,應作脫膜處理。不要輕信聲稱鍍后無需除膜的酸銅光亮劑的宣傳,而在工藝流程設計時不考慮除膜工序。
因為即使新配液時可以不脫膜,隨著亮銅液中有機雜質的積累或加入的光亮劑比例失調時,也會產生憎水的有機膜層。眾所周知,-幾乎是所有酸銅光亮劑中不可缺少的組分,而鍍層中-的夾附量越大,越容易生成憎水膜層。
4、真空鍍膜機底鍍層的鈍化性。越易鈍化的鍍層,其上鍍層的結合力越差。鎳是易鈍化金屬,鍍鎳過程中斷電對間稍長,鎳鍍層在鍍鎳液中會發(fā)生化學鈍化;
若未能有效避免雙性電極現(xiàn)象(詳見第四講);則作為陽極部分的工件局部更會發(fā)生-的電化學鈍化,在鍍多縣鎳時-應注意。鉻比鎳更易鈍化,所以鉻上鍍鉻必須有-的活化。
鉻上鍍鉻的情況也不少,如:裝飾性套鉻一次深鍍能力差時作二次套鉻;為-抗蝕性與耐磨性,在乳白鉻(基本無裂紋)上鍍硬鉻;鉬及鉬合金電鍍要求用鍍鉻打底等。
真空鍍膜設備選購要點分析
真空鍍膜設備選購要點分析如下:
1、爐體可選擇由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結構。
2、根據(jù)工藝要求選擇不同規(guī)格及類型的鍍膜設備,其類型有電阻蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射、磁控反應濺射、離子鍍、空心陰極離子鍍、多弧離子鍍等。
3、夾具運轉形式有自轉、公轉及公轉+自轉方式,用戶可根據(jù)基片尺寸及形狀提出相應要求,轉動的速度范圍及轉動精度:普通可調及變頻調速等。
4、真空系統(tǒng)由機械泵、擴散泵、油增壓泵、增擴泵、羅茨泵、堝輪分子泵等及與它們相匹配的各種氣動、手動、電動閥門、管道等組成。
5、根據(jù)工藝要求選擇鍍制方式及形式,如電阻蒸發(fā)(鎢絲、鉬舟、石墨舟)磁控源(同軸圓柱型磁控源、園柱型平面磁控源、矩型平面磁控源等)以靶材材質及尺寸多弧源(ф60,ф80直徑靶材,氣動、電動的引弧等),真空測量可選擇數(shù)字式智能真空計及其的測量規(guī)管,及其它測量儀器,如自動壓強控制儀等。膜厚測量可選用方塊電阻測量儀,透過率計等。
6、充氣方式可選用流量計、浮子流量計+針閥及相應的充氣閥門,并可選擇多路充氣管路及相應流量參數(shù)。
7、根據(jù)需烘烤的結構提出烘烤溫度、材質以及所需配備相應儀表測量。
8、根據(jù)設備使用特點,可選擇手動、半自動、全自動或其組合的控制方式。
9、完善的報警系統(tǒng),對真空室體、擴散泵斷相、缺水、氣壓、電源負載的過壓、過流等異常情況進行聲光報警。
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