嘉興真空電鍍設(shè)備廠家多少錢

多弧濺射在靶材上施小電壓大電流的作用

多弧濺射在靶材上施小電壓大電流使材料離子化（帶正電顆粒），從而高速擊向基片(負(fù)電)并沉積，形成致密膜堅(jiān)硬膜。主要用于耐磨耐蝕膜。中頻濺射的原理跟一般的直流濺射是相同的,不同的是直流濺射把筒體當(dāng)陽極,而中頻濺射是成對的,筒體是否參加必須視整體設(shè)計(jì)而定,與整個系統(tǒng)濺射過程中,陽極陰極的安排有關(guān),參與的比率周期有很多方法,不同的方法可得到不相同的濺射產(chǎn)額,得到不相同的離子密度中頻濺射主要技術(shù)在于電源的設(shè)計(jì)與應(yīng)用,目前較成熟的是正弦波與脈沖方波二種方式輸出,各有其優(yōu)缺點(diǎn),首先應(yīng)考慮膜層種類,分析哪種電源輸出方式適合哪種膜層,可以用電源特性來得到想要的膜層效果.中頻濺射也是磁控濺射的一種,一般真空鍍膜機(jī)磁控濺射靶的設(shè)計(jì),磁場的設(shè)計(jì)是各家技術(shù)的重點(diǎn),國際幾個有名的濺射靶制造商,對靶磁場的設(shè)計(jì)相當(dāng),改變磁場設(shè)計(jì)能得到不相同的等離子體蒸發(fā)量.電子的路徑,等離子體的分布.關(guān)于陰極弧（也就是離子鍍），磁控濺射，以及坩堝蒸發(fā)都屬于pvd（物理氣相沉積），坩堝蒸發(fā)主要是相變，蒸發(fā)靶材只有幾個電子伏特的能量。

雙色真空鍍膜機(jī)pvd技術(shù)的應(yīng)用范圍及優(yōu)缺點(diǎn)

很多人對真空鍍膜機(jī)pvd技術(shù)的了解不是-全，也不知道具體是應(yīng)用到哪些行業(yè)，以及它在實(shí)際運(yùn)用過程有哪些優(yōu)缺點(diǎn)?至成真空小編現(xiàn)在詳細(xì)和大家介紹一下:

真空鍍膜機(jī)pvd技術(shù)其應(yīng)用范圍是：

1）碳鋼、合金鋼、不銹鋼及鈦合金等金屬材料；

2）金屬材料的表面硬度至少需要在hv170以上。

真空鍍膜機(jī)pvd技術(shù)其優(yōu)點(diǎn)是:

與傳統(tǒng)磁控濺射單色pvd技術(shù)相比，雙色pvd工藝更為復(fù)雜，流程更為繁雜，生產(chǎn)難度高，但外觀效果，兩種顏色的表面硬度都在hv600以上。傳統(tǒng)磁控濺射單色pvd技術(shù)要在實(shí)現(xiàn)雙色效果，采取的工藝措施是在整體pvd單色的基礎(chǔ)上把需要實(shí)現(xiàn)另一種顏色的區(qū)域激光鐳雕掉或者磨掉。新加工出來的區(qū)域就只能表現(xiàn)金屬的-，表面硬度也就是金屬本身的表面硬度-hv200左右（而pvd后的表面硬度為hv600以上）。