深圳鍍金真空電鍍設(shè)備---

光學(xué)真空鍍膜機(jī)清洗和保養(yǎng)方法

光學(xué)薄膜在我們的生活中無處不在，從精密及光學(xué)設(shè)備、顯示器設(shè)備到日常生活中的光學(xué)薄膜應(yīng)用;比方說，平時(shí)戴的眼鏡、數(shù)碼相機(jī)、各式家電用品，或者是防偽技術(shù)，皆能被稱之為光學(xué)薄膜技術(shù)應(yīng)用之延伸。光學(xué)鍍膜技術(shù)以及普及到人們生活方方面面，因此光學(xué)真空鍍膜機(jī)也是大家目前非常關(guān)注的話題。今天至成真空小編為大家介紹一下光學(xué)真空鍍膜機(jī)在平時(shí)運(yùn)行的時(shí)候該如何清洗和保養(yǎng)問題，希望能讓大家對(duì)光學(xué)真空鍍膜機(jī)多一些了解。

首先我們來介紹一下光緒真空鍍膜機(jī)的清洗問題：設(shè)備使用一個(gè)星期后，因鍍料除鍍在工件表面外，亦因無定向性而工作室內(nèi)的襯板上鍍料，并越鍍越厚，該層膜厚因組織、繞疏松，吸收大量氣體而造成真空鍍膜設(shè)備抽氣越來越慢。此時(shí)，應(yīng)對(duì)工作室及襯板進(jìn)行清洗，如不-拆落來的部件，可用砂紙打磨干凈。

因此，襯板必須烘干水份才能安裝，烘干前，襯板的水分盡量抹干，工作架等部件用砂紙清潔后，需要把真空室的所有灰塵清理干凈，此可用吸塵器吸干凈灰塵。后安裝襯板時(shí)，真空室及襯板都需要用酒精控拭干凈。如使用電子槍及離子源輔助鍍膜，可能會(huì)造成清潔困難，可使用噴沙等方法來清潔。

多弧濺射在靶材上施小電壓大電流的作用

多弧濺射在靶材上施小電壓大電流使材料離子化（帶正電顆粒），從而高速擊向基片(負(fù)電)并沉積，形成致密膜堅(jiān)硬膜。主要用于耐磨耐蝕膜。中頻濺射的原理跟一般的直流濺射是相同的,不同的是直流濺射把筒體當(dāng)陽極,而中頻濺射是成對(duì)的,筒體是否參加必須視整體設(shè)計(jì)而定,與整個(gè)系統(tǒng)濺射過程中,陽極陰極的安排有關(guān),參與的比率周期有很多方法,不同的方法可得到不相同的濺射產(chǎn)額,得到不相同的離子密度中頻濺射主要技術(shù)在于電源的設(shè)計(jì)與應(yīng)用,目前較成熟的是正弦波與脈沖方波二種方式輸出,各有其優(yōu)缺點(diǎn),首先應(yīng)考慮膜層種類,分析哪種電源輸出方式適合哪種膜層,可以用電源特性來得到想要的膜層效果.中頻濺射也是磁控濺射的一種,一般真空鍍膜機(jī)磁控濺射靶的設(shè)計(jì),磁場的設(shè)計(jì)是各家技術(shù)的重點(diǎn),國際幾個(gè)有名的濺射靶制造商,對(duì)靶磁場的設(shè)計(jì)相當(dāng),改變磁場設(shè)計(jì)能得到不相同的等離子體蒸發(fā)量.電子的路徑,等離子體的分布.關(guān)于陰極�。ㄒ簿褪请x子鍍），磁控濺射，以及坩堝蒸發(fā)都屬于pvd（物-相沉積），坩堝蒸發(fā)主要是相變，蒸發(fā)靶材只有幾個(gè)電子伏特的能量。