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研磨機(jī)常用的研磨盤有銅盤，錫盤，不銹鋼盤，鐵盤，樹脂盤。每種材料的研磨盤應(yīng)用的工件類型也有所差別。銅盤主要功能是精磨，多用于藍(lán)寶石等工件的精磨；錫盤也是側(cè)重精磨，聚氨酯拋光墊，不過是用于精磨陶瓷產(chǎn)品；不銹鋼盤一般用于金屬產(chǎn)品的精磨；鐵盤的功能就側(cè)重于粗磨，拋光墊市場(chǎng)，主要是對(duì)鐵、合金鋼產(chǎn)品進(jìn)行粗磨；樹脂盤一般用于塑膠、模具等工件的粗磨。

采用表面開槽的拋光墊拋光時(shí)有以下特點(diǎn)：

1.材料去除率比采用不開槽拋光墊時(shí)提高，杭州拋光墊，有效的縮短了拋光時(shí)間。

2.工件表面的不均勻性降低，使工件平坦化。

3.拋光墊表面適當(dāng)開槽后，拋光墊應(yīng)用，儲(chǔ)存、運(yùn)送拋光液的能力-增強(qiáng)，磨料分布更均勻、工件表面剪切應(yīng)力高，因此拋光效率和都得到提高。

拋光墊其表面上面的溝槽本身具有著相似于均勻的分布磨粒的作用，它通過其增加去除應(yīng)力-工件的移除率。

4分散劑

一般來說，對(duì)拋光液的基本要求是磨粒均勻地懸浮分散在拋光液中，且具有足夠的分布穩(wěn)定性。所以在拋光之前有-對(duì)拋光液進(jìn)行過濾，濾掉磨料-

產(chǎn)生的微量大尺寸磨料顆粒。然而，過濾并不能全部消除這種-現(xiàn)象，因?yàn)樵趻伖獾膶?shí)際過程中，工藝參數(shù)的變化會(huì)導(dǎo)致磨料的軟-，從而影響工件

表面的拋光效果。因此，往往需要在拋光液中添加分散劑來提高拋光液的分散穩(wěn)定性，以減少溶液中磨料粒子團(tuán)聚。

不同分散劑會(huì)對(duì)拋光液中磨粒的分散穩(wěn)定性產(chǎn)生不同的影響;分散劑的濃度也會(huì)對(duì)拋光液的分散穩(wěn)定性產(chǎn)生影響。

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