鍍金真空電鍍?cè)O(shè)備廠家-鍍膜設(shè)備-至成鍍膜設(shè)備廠家供應(yīng)

鍍膜設(shè)備該選擇哪種主泵配置真空系統(tǒng)在鍍膜設(shè)備行業(yè)中可謂是非常重要，是其不缺缺少的設(shè)備之一。目前常用的真空系統(tǒng)結(jié)構(gòu)形式一般是由主泵及前級(jí)泵串聯(lián)，加上閥門管道和真空測量儀表組成。而所選的主泵基本-為兩種形式，分別為有油真空和無油真空系統(tǒng)。那么什么是有油真空系統(tǒng)和無油真空系統(tǒng)呢？下面小編來給大家介紹一下：有油真空系統(tǒng)基本是以油擴(kuò)散泵為主泵，前級(jí)泵采用機(jī)械泵或者羅茨泵。我們知道，油擴(kuò)散泵的壓力方位比較大，同時(shí)抽氣速率非常的高，能夠達(dá)到每秒十幾萬升。其工作能力在業(yè)內(nèi)是的，這也得益于其具有-的性能。從優(yōu)點(diǎn)上來講，有油真空系統(tǒng)工作-，沒有振動(dòng)，沒有噪音，-，維護(hù)建檔透支費(fèi)用低，是很多廠家都喜歡使用的。但是其缺點(diǎn)也非常的明顯，就是會(huì)形成污染源，大規(guī)格泵在這方面的-。無油真空西永是使用分子泵和低溫泵作為主泵的，其特點(diǎn)主要集中在能夠連續(xù)大量抽氣，可以獲得清潔無油的真空。并且該系統(tǒng)啟動(dòng)時(shí)間快，停泵時(shí)間短。但是該系統(tǒng)抽重氣體比抽輕氣體快，對(duì)水蒸氣類型的的抽速比較慢，當(dāng)氣體大量經(jīng)過泵的時(shí)候，抽速就會(huì)下降的很快。這兩種真空鍍膜設(shè)備各有各的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)，使用者應(yīng)該考慮自己的需求來進(jìn)行選購。

磁控濺射鍍膜技術(shù)介紹磁控濺射鍍膜設(shè)備是一種具有結(jié)構(gòu)簡單、電器控制穩(wěn)定性好等優(yōu)點(diǎn)的真空鍍膜機(jī)，其工藝技術(shù)的選擇對(duì)薄膜的性能具有非常重要的影響。磁控濺射鍍膜技術(shù)在陶瓷表面裝飾中采用的工藝流程如下：陶瓷片***超聲清洗***裝夾***抽本底真空***plasma清洗***加熱***通氣***預(yù)濺射***抽本底真空***濺射(或多次濺射)***鍍af膜***破真空卸片***表面檢驗(yàn)***性能測試***包裝、入庫。以上工藝技術(shù)就是以磁控濺射鍍膜設(shè)備為基礎(chǔ)，選用合適的靶材和濺射工藝，制備出超硬的耐磨鍍層，可以實(shí)現(xiàn)材料的高硬度、高耐磨、高耐劃傷特性；同時(shí)，利用ncvm光學(xué)膜結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，設(shè)計(jì)出各層不同折射率材料，可以調(diào)配出任意顏色，使得陶瓷不僅硬度高、強(qiáng)度高，具備外觀件、美觀的特點(diǎn)，而且不會(huì)屏蔽電磁信號(hào)。磁控濺射鍍膜設(shè)備配合ncvm工藝，能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)于陶瓷電子消費(fèi)品的表面裝飾處理，在-陶瓷強(qiáng)度和硬度的同時(shí)，也能夠提升其美觀性和藝術(shù)性，-地滿足消費(fèi)者的個(gè)性化需求。ncvm鍍膜主要是在真空條件下，通過相應(yīng)的物理化學(xué)手段來對(duì)金屬材料進(jìn)行轉(zhuǎn)換，以粒子的方式吸附在材料表面，形成鍍膜層，相比較普通真空電鍍，ncvm的技術(shù)含量更高，加工流程也復(fù)雜。磁控濺射鍍超硬膜，結(jié)合ncvm光學(xué)鍍膜技術(shù)，其鍍層具有優(yōu)異的耐磨性、耐蝕性、鍍層厚度均勻性以及致密度-特點(diǎn)，已在電子產(chǎn)品中獲得大量應(yīng)用。隨著電子工業(yè)的迅猛發(fā)展，ncvm鍍膜憑借本身-的性能，在真空電鍍技術(shù)領(lǐng)域-，成為了電子消費(fèi)品生產(chǎn)中的一項(xiàng)-，在--處理效果的同時(shí)，也能夠消除電鍍過程中重金屬元素對(duì)于人體的危害，對(duì)其環(huán)境污染問題進(jìn)行解決。