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新---光電科技-聚氨酯拋光墊-泰州拋光墊

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    2021-6-23

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化學機械拋光液一般由去離子水、 磨料、ph值調節(jié)劑、氧化劑以及分散劑等添加劑組成,根據ph值不同, 分為酸性和堿性。

化學拋光液及其組分的作用.

1磨料

磨料在拋光過程中主要通過微切削、微劃擦、滾壓等方式作用于工件被加工表面,去除表面材料。的化學機械拋光過程是磨料的機械去除表面材料

厚度等于化學反應生成物層厚度,此時,磨粒只需較小的機械作用去除結合力較弱的化學反應層的生成物,可減少或避免拋光表面缺陷。磨料的硬度、粒

徑形狀及其在拋光液中的濃度等綜合因素決定了磨粒的去除行為和能力。






聚胺脂拋光片發(fā)泡孔的不同  拋光片發(fā)泡孔多利于拋光粉的流動性,聚氨酯拋光墊,拋-率要好。拋光片發(fā)泡孔少的在親水性能上要強,因聚胺脂在長時間拋光液的浸蝕下,發(fā)泡多的變形大于發(fā)泡少的聚胺脂拋光片,因此,發(fā)泡孔多的拋光片修盤次數相應增加。

聚胺脂拋光片開槽的優(yōu)點

為了增加拋光液的流動性、提高拋-率,可選用開槽類型的聚胺脂拋光片,一般選擇1.5t以上的厚度,開槽的型號分為10p、15p、20p、30p,拋光墊價格,開槽的拋光片會減少拋光粉里的較大顆粒對鏡片的劃傷,主要用于平面加工。



在cmp中,泰州拋光墊,拋光墊具有以下功能:

(1)能貯存拋光液,并把它運送到工件的整個加工區(qū)域,使拋光均勻;

(2)從工件拋光表面除去拋光過程產生的殘留物質(如拋光碎屑、拋光墊碎片等);

(3)傳遞材料去除所需的機械載荷;

(4)維持拋光過程所需的機械和化學環(huán)境。拋光墊性能主要由拋光墊的材料種類、材料性能、表面結構和狀態(tài)等決定。





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