不管平衡非平衡,若磁鐵靜止,其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率,可采用旋轉(zhuǎn)磁場。但旋轉(zhuǎn)磁場需要旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),同時(shí)濺射速率要減小。旋轉(zhuǎn)磁場多用于大型或貴重靶。如半導(dǎo)體膜濺射。對(duì)于小型設(shè)備和一般工業(yè)設(shè)備,多用磁場靜止靶源。
用磁控靶源濺射金屬和合金很容易,化妝刷口管七彩電鍍,點(diǎn)火和濺射很方便。這是因?yàn)榘校帢O),化妝刷口管七彩電鍍廠家,等離子體,和被濺零件真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。
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