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蝕刻設(shè)備的維護(hù)

維護(hù)蝕刻設(shè)備的關(guān)鍵因素就是要-噴嘴的高清潔度及無(wú)阻塞物，面板標(biāo)牌批發(fā)，使噴嘴能暢順地噴射。阻塞物或結(jié)渣會(huì)使噴射時(shí)產(chǎn)生壓力作用，沖擊板面。而噴嘴不清潔﹐則會(huì)造成蝕刻不均勻而使整塊電路板報(bào)廢。明顯地﹐設(shè)備的維護(hù)就是更換破損件和磨損件﹐因噴嘴同樣存在著磨損的問(wèn)題，所以更換時(shí)應(yīng)包括噴嘴。此外﹐更為關(guān)鍵的問(wèn)題是要保持蝕刻機(jī)沒(méi)有結(jié)渣﹐因很多時(shí)結(jié)渣堆積過(guò)多會(huì)對(duì)蝕刻液的化學(xué)平衡產(chǎn)生影響。

負(fù)載（loading）-- 蝕刻速率依賴于可蝕刻表面數(shù)量，可在宏觀或微觀尺寸下。縱橫比決定蝕刻（aspect ratio dependent etching/arde）--蝕刻速率決定于縱橫比。終點(diǎn)（endpoint）-- 在一個(gè)蝕刻過(guò)程中，東沙群島面板標(biāo)牌，平均膜厚被蝕刻干凈時(shí)的時(shí)間點(diǎn)。光刻膠（photo-resist）-- 作為掩膜用來(lái)圖形轉(zhuǎn)移的光敏材料。分辨率（resolution）-- 用于測(cè)試光學(xué)系統(tǒng)把相鄰的目標(biāo)形成分離圖像的能力。焦深 (depth of focus) – 在焦平面上目標(biāo)能形成影像的縱向距。關(guān)鍵尺寸（critical dimensi-cd）-- 一個(gè)特征圖形的尺寸，包括線寬、間隙、或者關(guān)聯(lián)尺寸。

標(biāo)牌電蝕刻問(wèn)題

1.不銹鋼(300系列)在中會(huì)鈍化，不會(huì)腐蝕.面-和會(huì)造成不銹鋼的腐蝕，優(yōu)以hf為重.

2.蝕刻不銹鋼用nacl()水溶液就可以，黃銅可以考慮用nacl和nano3(鈉)混合溶液.

3.蝕刻鋁牌與其它金屬一樣，不存在的電蝕比化學(xué)蝕刻快，電蝕對(duì)小面積細(xì)線條的圖案，按每次一塊與化學(xué)蝕刻相絲，要快5-10倍(看蝕刻液配方及蝕刻頭形狀，面板標(biāo)牌定制，陰陽(yáng)極間距，蝕刻溫度，電源波形)，但化學(xué)蝕刻一次蝕刻的面積可能要較電刻大幾十或數(shù)百倍(如用pcb機(jī))，所以這種說(shuō)法不準(zhǔn)確!

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