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若將反應氣體導入蒸發(fā)空間,便可在工件表面沉積金屬化合物涂層,這就是反應性離子鍍。由于采用等離子活化,工件只需在較低溫度甚至在室溫下進行鍍膜,完全-零件的尺寸精度和表面粗糙度,因此,可以安排在工件淬火、回火后即后一道工序進行。如沉積tin或tic時,基體溫度可以在150-600℃范圍內選擇,溫度高時涂層的硬度高,塑膠鍍膜設備,與基體的結合力也高。基體溫度可根據基體材料及其回火溫度選擇,如基體為高速鋼,可選擇560℃,這樣,對于經淬火、回火并加工到尺寸的模具加工,無需-基體硬度降低及變形問題。另外,離子鍍的沉積速度較其他氣相沉積方法快,得到10mm厚的tic或tin涂層,一般只需要幾十分鐘。
1、真空鍍膜工藝在信息存儲范疇中的運用薄膜資料作為信息記載于存儲介質,有其得天獨厚的優(yōu)勢:因為薄膜很薄能夠疏忽渦流損耗;磁化回轉-敏捷;與膜面平行的雙穩(wěn)態(tài)狀況簡單保持等。為了更精細地記載與存儲信息,必定要選用鍍膜技能。
2、真空鍍膜工藝在傳感器方面的運用在傳感器中,多選用那些電氣性質相關于物理量、化學量及其變化來說,-敏感的半導體資料。此外,其中大多數運用的是半導體的外表、界面的性質,需求盡量增大其面積,且能工業(yè)化、低報價制造、因而選用薄膜的狀況許多。
離子鍍,是在真空條件下,利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質離子化,在氣體離子或蒸發(fā)物質離子轟擊作用下,把蒸發(fā)物質或其反應物蒸鍍在工件上。離子鍍把輝光放電、等離子技術與真空蒸鍍技術結合在一起,不僅明顯地提高了鍍層的各種性能,而且,-擴充了鍍膜技術的應用范圍。
離子鍍除兼有真空濺射的優(yōu)點外,還具有膜層的附著力強、繞射性好、可鍍材料廣泛等優(yōu)點。例如,真空鍍膜設備,利用離子鍍技術可以在金屬、塑料、陶瓷、玻璃、紙張等非金屬材料上,涂覆具有不同性能的單一鍍層、合金鍍層、化合物鍍層及各種復合鍍層,而且沉積速度快(可達755m/min),鍍前清洗工序簡單,鍍膜設備,對環(huán)境無污染,因此,近年來在-外得到了迅速的發(fā)展。
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